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            真空银纳米颗粒技术分析
            发布时间:2014-10-09 浏览:2385 次

              制备银纳米粒子的常用方法有物理方法和化学方法。化学方法包括溶胶凝胶法、电镀法、氧化一还原法、静电喷涂法。利用化学方法所得到的银颗粒最小可达几纳米。

              实验简单、方便,但所得银颗粒不易转移和组装,且杂质含量较高,容易形成团聚大颗粒。

              物理制备方法主要有真空蒸镀、溅射底和离子镀。

              溅射镀又包括直流溅射镀、磁控溅射镀、射频溅射镀、反应溅射镀和新发展的微波控制的共溅射镀等。真空蒸发方法是发展最早、应用最广的银纳米粒子的制备方法,其原理简单,操作方便。

              通过控制蒸发参数可制备几纳米到几十纳米的颗粒,但所得纳米粒子定向生长性差,纳米粒子分散度大,颗粒形状和粒度分布不均匀。

              溅射方法是20世纪40年代开始发展的制备方法,在现代工业和科学研究中得到广泛应用。溅射方法与蒸发方法一样,操作简单。

              特别是1970年出现的磁控溅射技术,具有高速、低温两大特点,通过对溅射参数的控制,可以制备出几纳米到几十纳米的颗粒,所得纳米颗粒尺寸小,定向生长性妤,颗粒形状较整齐,粒度小,较均匀。离子镀也是一种新型的制备方法,所制备的纳米颗粒尺寸小,粒子形状整齐,粒度也较均匀,但其设备较昂贵。

              最新的纳米粒子的制备设备是流动液面真空蒸镀装置,它可制备出0.1nm的团簇粒子,颗粒均匀度很高,是一种非常好的银纳米制备设备,但设备昂贵,不适合运用于工业生产中。

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